💥 Gate 广场活动: #发帖赢代币PORTALS# 💥
在 Gate广场发布与 PORTALS、Alpha交易赛、空投活动或Launchpool 相关的原创内容,即有机会瓜分 1,300 枚 PORTALS 奖励!
📅 活动时间:2025年9月18日 18:00 – 9月25日 24:00 (UTC+8)
📌 相关详情:
Alpha交易赛:参与即有机会赢奖励
👉 https://www.gate.com/zh/announcements/article/47181
空投活动:领取 #PORTALS# 空投
👉 https://www.gate.com/zh/announcements/article/47168
Launchpool:抵押 GT 获取 PORTALS
👉 https://www.gate.com/zh/announcements/article/47148
📌 参与方式:
发布原创内容,主题需与 PORTALS 或相关活动(Alpha交易赛 / 空投 / Launchpool) 相关
内容不少于 80 字
帖子添加话题: #发帖赢代币PORTALS#
附上任意活动参与截图
🏆 奖励设置:
🥇 一等奖(1名):300 PORTALS
🥈 二等奖(4名):150 PORTALS/人
🥉 三等奖(4名):100 PORTALS/人
📄 注意事项:
中微公司:发布六款半导体设备新产品
金十数据9月4日讯,中微公司公告称,近日推出六款半导体设备新产品,包括两款刻蚀设备和四款薄膜沉积设备。刻蚀设备方面,新一代极高深宽比等离子体刻蚀设备PrimoUD-RIE 和专注于金属刻蚀的PrimoMenova 12寸ICP单腔刻蚀设备,旨在满足客户在极高深宽比刻蚀和金属刻蚀领域的需求。薄膜沉积设备方面,包括三款原子层沉积产品和一款外延产品,如PreformaUniflash 金属栅系列和PRIMIOEpita RP双腔减压外延设备。这些新产品预计将对公司未来半导体设备市场拓展和业绩成长性产生积极影响。新产品尚处于市场导入初期,存在市场推广和客户验证等风险,可能对公司收入和盈利带来不确定性。