💥 Gate 廣場活動: #发帖赢代币PORTALS# 💥
在 Gate廣場發布與 PORTALS、Alpha交易賽、空投活動或Launchpool 相關的原創內容,即有機會瓜分 1,300 枚 PORTALS 獎勵!
📅 活動時間:2025年9月18日 18:00 – 9月25日 24:00 (UTC+8)
📌 相關詳情:
Alpha交易賽:參與即有機會贏獎勵
👉 https://www.gate.com/zh/announcements/article/47181
空投活動:領取 #PORTALS# 空投
👉 https://www.gate.com/zh/announcements/article/47168
Launchpool:抵押 GT 獲取 PORTALS
👉 https://www.gate.com/zh/announcements/article/47148
📌 參與方式:
發布原創內容,主題需與 PORTALS 或相關活動(Alpha交易賽 / 空投 / Launchpool) 相關
內容不少於 80 字
帖子添加話題: #发帖赢代币PORTALS#
附上任意活動參與截圖
🏆 獎勵設置:
🥇 一等獎(1名):300 PORTALS
🥈 二等獎(4名):150 PORTALS/人
🥉 三等獎(4名):100 PORTALS/人
📄 注意事項:
中微公司:發布六款半導體設備新產品
金十數據9月4日訊,中微公司公告稱,近日推出六款半導體設備新產品,包括兩款刻蝕設備和四款薄膜沉積設備。刻蝕設備方面,新一代極高深寬比等離子體刻蝕設備PrimoUD-RIE 和專注於金屬刻蝕的PrimoMenova 12寸ICP單腔刻蝕設備,旨在滿足客戶在極高深寬比刻蝕和金屬刻蝕領域的需求。薄膜沉積設備方面,包括三款原子層沉積產品和一款外延產品,如PreformaUniflash 金屬柵系列和PRIMIOEpita RP雙腔減壓外延設備。這些新產品預計將對公司未來半導體設備市場拓展和業績成長性產生積極影響。新產品尚處於市場導入初期,存在市場推廣和客戶驗證等風險,可能對公司收入和盈利帶來不確定性。